首頁 > 產品中心 > Trion等離子沉積,刻蝕
  • Oracle III系統
Trion創建于1989年,是一家等離子刻蝕與沉積系統制造商
Trion為化合物半導體、MEMS(微機電系統)、光電器件以及其他半導體市場提供多種設備。 產品在業內以系統占地面積小、成本低而著稱,且設備及工藝的可靠性和穩定性久經考驗。 從整套的批量生產用設備,到簡單的實驗室研發用系統,盡在Trion。\

Oracle III 多腔室系統
由中央真空傳輸機構(CVT)、真空盒升降機和最多四個工藝反應室構成。這些工藝反應室與中央負載鎖對接,既能夠以生產模式運行,也能夠作為單個系統獨立作業。Oracle III是非常靈活的系統,既可以為實驗室環境進行配置(使用單基片裝卸),也可以為批量生產進行配置(使用真空盒升降機進行基片傳送)。
由于Oracle III最多可容納四個獨立的工藝室,其可以有多種不同的工藝組合,其中包括RIE/ICP(反應離子刻蝕機/電感耦合等離子)刻蝕和PECVD沉積。多個室可以同時工作。鑒于所有工藝室均有真空負載鎖,工藝運行安全且沒有大氣污染。



文件下載
秒速飞艇是骗局吗